偏压电源在真空离子镀膜工艺中对膜层质量起着至关重要的作用，偏压可显著提升沉积速率、提升膜层与工件的结合力、增加膜层致密性。精新偏压电源可运行于等离子清洗、刻蚀和偏压三种不同的功能模式，适用于等离子体薄膜沉积工艺中的不同流程。